TALLINNA TEHNIKAÜLIKOOLI
RAAMATUKOGU DIGIKOGU
tuvastatud kui külaline  
 


(10 MB)

Pealkiri Investigation of the Intermediate Layer in the Metal-Silicon Carbide Contact Obtained by Diffusion Welding. Difusioonkeevitusega valmistatud metalli ja ränikarbiidi vahelise üleminekuala vahekihi uurimine 
Autor Sleptšuk, Natalja 
Märksõnad difusioonkeevitus, ränikarbiid, metall-pooljuht kontakt, vahekiht, dissertatsioonid,
diffusion welding, silicon carbide, metal-semiconductor contact, intermediate layer, dissertations 
Väljaandja TUT Press 
Juhendaja Rang, Toomas ; Korolkov, Oleg 
Kaitsmiskuupäev 03.06.2011 
Identifikaator ISBN: 9789949230792 (publication)
ISBN: 9789949230808 (pdf)
ISSN: 14064731 
Keel eng 
Asutus Tallinna Tehnikaülikool
Tallinn University of Technology 
Teaduskond Infotehnoloogia teaduskond
Faculty of Information Technology 
Instituut / kolledž Thomas Johann Seebecki elektroonikainstituut
Thomas Johann Seebeck Department of Electronics